光 清洗 灯／uv光 清洗 灯／ 紫外光 清洗 灯／uv灯 一、 紫外光 清洗 的工作原理： 光 清洗 技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光 清洗 后的材料表面可以达到/原子清洁度/。 更详尽的讲：uv光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被 清洗 物体表面时,大多数碳化合物对 185nm波长的 紫外光 具有较强的吸收能力,吸收185nm波长的 紫外光 的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的 紫外光 后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的 紫外光 同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳化合物的分解物可化合成可挥发的气体：和水蒸气等逸出表面，从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。 二、光 清洗 的特点light clean feature： 1、可在空气中进行并且在 清洗 后不必进行干燥。 2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。 3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。 4、保证产品的高可靠性和高成品率。 5、产品表面 清洗 处理的均匀度一致。 6、由于光 清洗 是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表面不宜用光 清洗 方法，只适对表面污垢 清洗 、不适对污垢量较多，无机类污垢 清洗 。 三、光 清洗 的技术应用范围： 主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产